新型介质夹持杆薄膜衰减器Nb2O5的制备

• 作者: 孟庆贤 李锐 沈旭东 鲍林丽
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射 五氧化二铌膜 电阻测量
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 57-58
• 页数: 2页
• 分类号: TN124
• 字数: 1109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2006.02.018

摘要

采用高效磁控溅射连续镀膜技术,在介质夹持杆上溅射Nb膜,然后在真空室里放入O2对膜层进行氧化,得到Nb2O5膜层,用测量电阻来控制膜层厚度,即可制备各种膜系.所得到的膜层具有密度高、吸收大、热稳定性好等优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲍林丽		1	2	1.0	1.0
2	沈旭东		1	2	1.0	1.0
3	孟庆贤		1	2	1.0	1.0
4	李锐		1	2	1.0	1.0