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摘要:
研制出了适合于磁性电子元器件表面平坦化加工用的抛光剂,该抛光剂磨料选用超细α-Al2O3微粉.通过对磨料化学纯度的处理、表面包裹处理、抗静电处理、分散剂等方面研究试验,对抛光剂悬浮性、酸碱性、润滑性、可擦性等方面进行检测,结果表明:该抛光剂具有高浓度、低粘度和高分散稳定性,抛光效率高,具有良好的抗静电性和可擦性.抛光剂pH=6~8,抛光效率≥1.2μm/s,工件表面粗糙度Ra≤0.04μm.
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文献信息
篇名 磁性电子元器件精加工用抛光剂性能研究
来源期刊 金刚石与磨料磨具工程 学科 工学
关键词 磁性电子元器件 超细α-Al2O3微粉 抛光剂 精加工
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 研究与应用
研究方向 页码范围 58-60
页数 3页 分类号 TG74|TG580.68
字数 2597字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-852X.2006.02.017
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节点文献
磁性电子元器件
超细α-Al2O3微粉
抛光剂
精加工
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
金刚石与磨料磨具工程
双月刊
1006-852X
41-1243/TG
16开
郑州市高新区梧桐街121号
36-34
1970
chi
出版文献量(篇)
2468
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7
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