浸没式ArF光刻系统中光学因素对L形图形的影响

• 作者: 张飞 李艳秋
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 杂散光 偏振 像差 浸没式光刻 Prolith9.0
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 14-17,39
• 页数: 5页
• 分类号: TP3
• 字数: 2360字
• 语种: 中文

摘要

利用Prolith 9.0软件计算了浸没式ArF光刻中杂散光、光线偏振态和几何像差对目标线宽为65 nm的L形图形成像质量和光刻性能的影响,研究了杂散光、光线偏振态和几何像差对L形图形成像质量和光刻性能的影响规律.结果表明,杂散光使得L形图形图像对比度降低、线宽减小和图形位置误差增大;像散、慧差和球差可导致成像质量降低、线宽和图形位置误差增大;通过调整光线偏振态,可以提高成像质量、改善光刻性能、抑制L形图形对杂散光和像差的敏感度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中国科学院电工研究所	35	388	12.0	18.0
2	张飞	中国科学院电工研究所	49	550	11.0	23.0