利用CF4等离子体制作高开口率TFT-LCD

• 作者: Jung-yeal LEE 劉聖烈 崔瑩石 張炳鉉 李禹奉 李貞烈 柳在一 金奉柱
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: TFT-LCD 开口率 刻蚀 CF4等离子体
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 409-413
• 页数: 5页
• 分类号: TN873.93|TN305.7
• 字数: 338字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.001

摘要

为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差.通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小,因此,必须增加过孔的尺寸才行.为了克服上述问题,在本研究中用CF4气体代替 SF6气体进行刻蚀,结果在FFS 5.16(2.03 in)像素结构中,开口率提高了60 %.