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印刷碳纳米管薄膜场发射失效行为研究
印刷碳纳米管薄膜场发射失效行为研究
作者:
刘兴辉
刘卫华
曾凡光
朱长纯
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
丝网印刷
碳纳米管薄膜
场致发射
失效行为
老炼
可靠性
摘要:
对基于印刷碳纳米管(CNT)薄膜的场发射器件的失效行为进行了研究.微观分析结果表明,器件失效主要是由真空击穿对CNT和导电衬底造成损坏所引起的.印刷CNT薄膜中存在的CNT团聚颗粒所造成的正反馈的发热和电流增加导致了真空击穿的发生.通过在真空室中对印刷CNT薄膜进行场发射条件下的老炼处理,有效地预防了真空击穿的发生,并使薄膜的场发射均匀性得到提高,证实了真空老炼对预防真空击穿和提高器件工作可靠性的作用.
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丝网印刷
碳纳米管场发射显示器及其全印刷制造技术
丝网印刷
碳纳米管
场发射显示器
内容分析
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期刊文献
内容分析
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相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
印刷碳纳米管薄膜场发射失效行为研究
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
丝网印刷
碳纳米管薄膜
场致发射
失效行为
老炼
可靠性
年,卷(期)
2006,(1)
所属期刊栏目
场发射与真空微纳电子会议专辑
研究方向
页码范围
68-71
页数
4页
分类号
TN27|O462.4
字数
2703字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2006.01.020
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱长纯
西安交通大学电子与信息工程学院
215
2372
22.0
41.0
2
刘卫华
西安交通大学电子与信息工程学院
33
304
9.0
16.0
3
曾凡光
西安交通大学电子与信息工程学院
9
49
5.0
6.0
4
刘兴辉
西安交通大学电子与信息工程学院
12
88
5.0
9.0
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二级参考文献(1)
2001(1)
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2002(3)
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参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
丝网印刷
碳纳米管薄膜
场致发射
失效行为
老炼
可靠性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
信息技术
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