非平衡磁控溅射结合电弧离子镀制备掺杂DLC硬质膜性能研究

• 作者: 于大洋 张以忱 徐路 马胜歌
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 硬质膜 DLC 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 霍尔离子源
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2197字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2006.06.008

摘要

将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Q、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到HV(20g)2600以上,摩擦因数接近0.1,电阻高于2MΩ.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张以忱	东北大学机械学院	153	408	11.0	16.0
2	马胜歌		12	67	6.0	7.0
3	于大洋	东北大学机械学院	4	16	3.0	4.0
4	徐路		1	4	1.0	1.0