脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射离子镀铝结合强度的影响

• 作者: 刘柯钊 刘清和 王庆富 鲜晓斌
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 贫铀 铝镀层 脉冲偏压 结合强度
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 快报
• 页码范围: 268-272
• 页数: 5页
• 分类号: TL214.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2007.03.003

摘要

采用磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于贫铀表面制备铝镀层,用扫描电镜和俄歇电子能谱仪对镀层形貌和界面元素分布进行分析,用拉伸法对镀层的结合强度进行测定.结果表明:在-900 V脉冲偏压下所得镀层与铀基体结合良好,镀层与基体之间存在较为明显的"伪扩散区";与直流偏压相比较,脉冲偏压所得镀层结合强度明显增强,镀层的致密性显著改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘清和		11	87	6.0	9.0
2	王庆富		27	143	8.0	10.0
3	鲜晓斌		47	280	10.0	12.0
4	刘柯钊		36	150	8.0	9.0