偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响

• 作者: 吕学超 汪小琳 董平 郎定木 鲜晓斌
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 偏压 镀层 微结构 残余应力
• 年，卷（期）: 2003,（z1）
• 页码范围: 121-125
• 页数: 5页
• 分类号: TL214.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2003.z1.031

摘要

分别用扫描电镜、X射线衍射仪和应力分析仪研究了5种不同偏压的施加对铀上磁控溅射铝镀层微结构和残余应力的影响.结果表明,偏压强烈影响镀层的组织.-300V下的组织致密性最差,低偏压下的优于未加偏压(0 V)的;偏压在-200 V及以下时的铝镀层择优取向于(111)低能晶面,高于-200 V时,择优取向由(111)转变为(200)晶面.不同偏压条件下制备的铝镀层的残余应力均较小,为数十MPa量级,但随着偏压的逐渐增加,残余应力由拉应力向压应力转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郎定木		40	144	8.0	9.0
2	董平		28	133	7.0	10.0
3	鲜晓斌		47	280	10.0	12.0
4	汪小琳		82	376	11.0	13.0
5	吕学超		29	121	6.0	9.0