磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较

• 作者: 佟莉娜 张琳琳 李晓娜 李鹏 王丽格 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN 磁控溅射 电弧离子镀
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 32-37
• 分类号: O484.4
• 字数: 4687字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2011.02.009

摘要

分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显饭镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晓娜	大连理工大学三束重点实验室	25	152	7.0	11.0
2	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
3	李鹏	天津师范大学物理与电子信息学院	7	44	2.0	6.0
4	张琳琳	天津师范大学物理与电子信息学院	5	51	3.0	5.0
5	王丽格	天津师范大学物理与电子信息学院	8	60	4.0	7.0
6	佟莉娜	天津师范大学物理与电子信息学院	7	57	4.0	7.0