飞秒激光作用下的硅表面微结构及发光特性

• 作者: 孙传东 程光华 门海宁
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 飞秒激光 微结构 荧光特性
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1081-1084
• 页数: 4页
• 分类号: TN248.1
• 字数: 2275字
• 语种: 中文

摘要

采用近红外飞秒激光辐照浸泡在硫酸溶液中的N型单晶硅片,激光波长800 nm,脉宽200 fs,重频1 kHz,平均功率为100 mW,而硫酸溶液的质量分数分别选择为0.1%和1%.辐照后硅表面呈直径为5～8 μm,高度15 μm的柱型结构.分析其荧光特性,并通过比较硅材料表面微结构与激光光源、扫描参数、硅片背景环境的关系,确定最佳辐照条件为激光扫描速度750 μm/s,扫描间距5 μm/s.最终在厚度0.5 mm、直径26 mm的硅片上获得10 mm×10 mm的方形扫描区域,荧光光谱显示激光扫描后的区域在700 nm附近有很强的荧光发射.分析结果表明飞秒激光扫描改变了样品的表面微结构尺寸,增大了吸收面积,扩展了荧光激发波长,有效提高了样品的吸收效率和荧光发光相对强度(超过扫描前发光相对强度的2倍),荧光发射谱的变化是由量子限制效应和表面态模型共同作用的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程光华		2	57	2.0	2.0
2	孙传东		2	63	2.0	2.0