氮分压对离子束溅射镍铬合金薄膜的影响

• 作者: 周继承 晏建武 田莉
• 来源期刊: 武汉理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: NiCr薄膜 表面形貌 电阻率 TCR
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 21-23,41
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2230字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4431.2006.10.007

摘要

研究了氮气分压对薄膜沉积速率、表面形貌、电阻温度系数(TCR)以及电阻率的影响.利用原子力显微镜表征了薄膜的表面形貌,用Alpha-Step IQ 台阶仪和四探针测量了薄膜的厚度和方块电阻.结果表明:薄膜沉积速率随氮气分压增大而减小;热处理使薄膜颗粒尺寸均匀,电阻率减小,电阻迟滞减小且TCR由负值变为正值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周继承	中南大学物理科学与技术学院	96	780	15.0	21.0
2	田莉	中南大学物理科学与技术学院	3	45	2.0	3.0
4	晏建武	中南大学物理科学与技术学院	9	56	5.0	7.0