氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术

• 作者: 刘洪祥 张云洞 李凌辉 熊胜明 申林
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束溅射 厚度均匀性 激光高反射薄膜 增透膜
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1175-1180
• 页数: 6页
• 分类号: TN244|O484
• 字数: 3441字
• 语种: 中文

摘要

研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺.简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法.先后得到了Ta2O5和SiO2单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜折射率,并定性地分析比较了离子束溅射和电子束蒸发制备的薄膜结构;制备并测试了633nm,1 315nm反射薄膜以及增透膜.结果表明:采用离子束溅射技术能够制备出优良的、满足需要的激光高反射薄膜元件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云洞	中国科学院光电技术研究所	45	372	10.0	16.0
2	熊胜明	中国科学院光电技术研究所	44	353	11.0	16.0
3	申林	中国科学院光电技术研究所	7	41	4.0	6.0
4	刘洪祥	中国科学院光电技术研究所	10	111	5.0	10.0
5	李凌辉	中国科学院光电技术研究所	8	57	4.0	7.0