PPy/ATP化学修饰电极的制备及其性能研究

• 作者: 孙小杰 孙晓亮 王静 肖迎红
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚吡咯 ATP 电化学性能 稳定性
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 页码范围: 937-940,946
• 页数: 5页
• 分类号: TP212.2
• 字数: 3538字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.04.002

摘要

采用多步掺杂与脱掺杂的电化学方法制备掺杂ATP的PPy化学修饰电极(PPy/ATP),利用紫外-可见光谱(UV)、傅立叶红外光谱(FTIR)、循环伏安曲线(CV)等对ATP的掺杂进行表征,并对PPy/ATP化学修饰电极的CV曲线及交流阻抗曲线(EIS)进行测试发现,掺杂ATP后,PPy膜的电化学性能仍然较好.利用紫外-可见光谱(UV)对ATP掺杂稳定性进行测试,结果发现,随浸泡时间延长,在260 nm指纹处的吸光度Abs变得越来越小,吸收峰几乎完全消失;但是将电极置于新的氯化钠溶液中电位恒定为负值时,仍然会有ATP脱掺杂出来,说明ATP的掺杂比较稳定,浸泡虽然会使部分脱掺杂,但仍有一部分较稳定地掺杂在PPy中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王静	南京理工大学化工学院	31	248	7.0	15.0
2	肖迎红	南京理工大学化工学院	22	434	11.0	20.0
3	孙晓亮	南京理工大学化工学院	5	54	3.0	5.0
4	孙小杰	南京理工大学化工学院	4	23	2.0	4.0