硬度和电负性对掺杂二硼化镁体系临界电流密度的影响

• 作者: 孙爱民 张涛 朱海滨 王顺青 黄国海
• 来源期刊: 低温与超导
• 学科: 工学
• 关键词: 二硼化镁超导体 硬度均衡值 电负性 临界电流密度
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 超导技术
• 页码范围: 248-250,256
• 页数: 4页
• 分类号: TM2
• 字数: 1934字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7100.2007.03.017

摘要

依据Slater过渡态计算法计算出的元素的硬度和电负性作为标度,通过对二硼化镁及掺杂二硼化镁超导体硬度和电负性的计算,研究了二硼化镁及掺杂二硼化镁超导体硬度和电负性与临界电流密度的关系,发现其具有较好的规律性.由此,提出用硬度均衡值ηcq和电负性的平均效应值χcq作为提高掺杂二硼化镁超导体临界电流密度的一个新依据,对今后二硼化镁超导电性的改善有很好的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙爱民	西北师范大学物理与电子工程学院	43	44	4.0	5.0
2	朱海滨	西北师范大学物理与电子工程学院	15	27	3.0	4.0
3	王顺青	西北师范大学物理与电子工程学院	8	22	3.0	4.0
4	张涛	西北师范大学物理与电子工程学院	18	25	3.0	4.0
5	黄国海	西北师范大学物理与电子工程学院	11	24	3.0	4.0