多弧离子镀TiAlN涂层熔滴工艺参数的影响

• 作者: 兰新哲 周廉 宫永辉 杨琳 毛延发 韩培刚
• 来源期刊: 内蒙古民族大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN 熔滴 N2分压 脉冲偏压 多弧离子镀
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 化学与化工
• 页码范围: 514-517
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2478字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-0185.2007.05.011

摘要

综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密度和直径随N2分压和脉冲偏压峰值的提高而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	兰新哲		205	1865	22.0	29.0
2	宫永辉		6	64	4.0	6.0
3	毛延发		8	139	6.0	8.0
4	韩培刚		5	97	4.0	5.0
5	杨琳		1	16	1.0	1.0
6	周廉		2	18	2.0	2.0