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锡晶须问题的现状与课题
锡晶须问题的现状与课题
作者:
梁鸿卿
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
锡晶须
无铅化
Sn镀层
连接器
应力学
摘要:
针对锡晶须的形成原因,文章执应力学一说,以电子连接器的触点为叙述点,把机械地从外部到镀层表面形成的应力所产生的锡晶须定义为外部应力型,并主要叙述以连接器为中心的外部应力型晶须;另一方面,才巴从基底材料的扩散和表面氧化等自然现象所产生的锡晶须定义为内部应力型晶须.丈中推荐了锡晶须的测试方法,阐述了锡晶须的形成机理,并简要介绍了对锡晶须研究的现状及今后的研究课题.
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文献信息
篇名
锡晶须问题的现状与课题
来源期刊
印制电路信息
学科
工学
关键词
锡晶须
无铅化
Sn镀层
连接器
应力学
年,卷(期)
2007,(11)
所属期刊栏目
检验与测试
研究方向
页码范围
55-57,69
页数
4页
分类号
TN41
字数
2915字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-0096.2007.11.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
梁鸿卿
中国电子科技集团公司第二研究所
12
5
2.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
锡晶须
无铅化
Sn镀层
连接器
应力学
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
印制电路信息
主办单位:
印制电路行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-0096
CN:
31-1791/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市闽行区都会路2338号95号楼CPCA大厦2楼
邮发代号:
创刊时间:
1993
语种:
chi
出版文献量(篇)
5458
总下载数(次)
19
总被引数(次)
10164
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