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用两种不同的紫外光照射高纯水和废水降低总有机碳的比较
用两种不同的紫外光照射高纯水和废水降低总有机碳的比较
作者:
葛伟伟
邓守权
闻瑞梅
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
185nmUV
254nmUV
总有机碳(TOC)
高纯水
废水
摘要:
本文研究了用185nm UV和254nm UV照射方法降低高纯水中的TOC和废水中五种有机物的TOC,用185nm UV能有效地将高纯水中的TOC降低到(≤0.3μg/L),满足超大规模集成电路用水的需要.同时研究了用两种不同的紫外线185nmUV和 254nmUV,对比照射降低水中难生物降解的有毒、有害的五种有机污染物(二苯甲酮、孔雀石绿、对氯苯酚(4-CP)、对硝基苯酚(4-NP)和罗丹明B(Rh B)的TOC,结果表明185nmUV,比254nmUV,降低有机物的TOC好得多.有利于环境保护.
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文献信息
篇名
用两种不同的紫外光照射高纯水和废水降低总有机碳的比较
来源期刊
电子学报
学科
工学
关键词
185nmUV
254nmUV
总有机碳(TOC)
高纯水
废水
年,卷(期)
2007,(5)
所属期刊栏目
学术论文
研究方向
页码范围
801-805
页数
5页
分类号
TN304
字数
3283字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0372-2112.2007.05.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
闻瑞梅
同济大学电子信息学院
24
151
8.0
11.0
2
邓守权
同济大学电子信息学院
17
112
7.0
10.0
3
葛伟伟
同济大学电子信息学院
4
19
2.0
4.0
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研究主题发展历程
节点文献
185nmUV
254nmUV
总有机碳(TOC)
高纯水
废水
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子学报
主办单位:
中国电子学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0372-2112
CN:
11-2087/TN
开本:
大16开
出版地:
北京165信箱
邮发代号:
2-891
创刊时间:
1962
语种:
chi
出版文献量(篇)
11181
总下载数(次)
11
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