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对Si和SiC纳米线中由应力引起的结构演化的高分辨显微研究
对Si和SiC纳米线中由应力引起的结构演化的高分辨显微研究
作者:
张泽
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要:
[编者按]:2007年11月20日,2007第六届中国国际纳米科技(成都)研讨会隆重召开,我国材料科学专家、中国科学院院士、北京工业大学副校长张泽应邀作了精彩的大会报告,报告主要介绍了张院士在Si和SiC纳米线微观行为等方面的最新发现以及研究进展,现将报告概要整理如下,谨供广大读者学习、参读.
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对Si和SiC纳米线中由应力引起的结构演化的高分辨显微研究
来源期刊
纳米科技
学科
关键词
年,卷(期)
2007,(6)
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页数
4页
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中文
DOI
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张泽
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纳米科技
主办单位:
西安纳米科技学会
陕西省电子学会纳米技术专业委员会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1812-1918
CN:
N
开本:
出版地:
西安市科技路37号海星城市广场B座24层
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语种:
chi
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717
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