纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层

• 作者: 王艳辉 臧建兵 陆静
• 来源期刊: 超硬材料工程
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米金刚石 硅镀层 准原子层沉积 热稳定性
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 研究和应用
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 3722字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1433.2007.06.001

摘要

采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层.通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳束金刚石的完整包覆.实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等分析方法研究了镀硅纳米金刚石的形貌、结构、表面吸附状态和热稳定性.结果表明,SiH4气体循环吸附-热解的QALD方法可在纳米金刚石颗粒表面形成均匀连续、厚度可控的硅镀层.热解反应温度为600℃时,硅镀层为立方相.纳米金刚石镀硅后,热稳定性显著提高,温度升高到1000℃也没有明显的氧化反应发生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王艳辉	燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室	40	452	11.0	20.0
2	臧建兵	燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室	27	298	8.0	17.0
3	陆静	燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室	26	50	4.0	5.0