电沉积条件对Pd-Co合金微观相结构和耐蚀性的影响

• 作者: 关晓洁 肖耀坤 钟美娥 陈宗璋
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Pd-Co合金 电沉积 微观结构 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 378-383
• 页数: 6页
• 分类号: TG1
• 字数: 3832字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2007.03.005

摘要

利用X射线衍射分析和动电位扫描技术等测试手段,考察电沉积工艺条件对Pd-Co合金镀层微观相结构和耐蚀性的影响.结果表明:钯钴合金沉积层的晶粒尺寸D(111)随电流密度、pH值和沉积时间的增加呈先减小后增大的变化趋势,随着镀液温度的升高而不断增大;当电流密度为1.0 A/dm2,pH值为8.3,沉积时间为30 min时,其晶粒尺寸最小,为8.239 6 nm;当电流密度为1.0 A/dm2,镀液温度为35℃,pH值为8.3时,钯钴合金沉积层的耐蚀性最强;而沉积时间对合金耐蚀性的影响不大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖耀坤	湖南大学材料学院	13	87	7.0	9.0
2	陈宗璋	湖南大学化学化工学院	94	1413	21.0	34.0
3	钟美娥	华南理工大学材料科学与工程学院	6	48	4.0	6.0