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Adsorption characteristics of copper ion on nanoporous silica
Nanoporous silica
Copper ion
Adsorption
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文献信息
篇名 XRD Investigation of ZnO Films after 400keV Xe Ion Implantation
来源期刊 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版 学科 工学
关键词 ZnO薄膜 氙离子 离子注入 XRD 射频磁控溅射 无线电频率 薄膜沉积 氧化锌
年,卷(期) 2007,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 65
页数 1页 分类号 TN304.21
字数 语种 中文
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2007(0)
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO薄膜
氙离子
离子注入
XRD
射频磁控溅射
无线电频率
薄膜沉积
氧化锌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版
年刊
兰州31号信箱中国科学院近代物理研究所出版发行社社址:北京市海淀区阜成路43号(100037)
出版文献量(篇)
1640
总下载数(次)
0
总被引数(次)
0
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