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摘要:
文章介绍了一种高密度的掩模式只读存储器CMOS集成电路及其工作原理,它所采用的是平坦式离子植入绝缘工艺的存储单元结构,能使电路在有限的面积内获得较高的集成密度.重点讨论存储单元的物理原理和逻辑结构,相应的外围电路模块的电路设计与功能实现.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 一种基于FLATCELL结构的MASKROM芯片设计
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 平坦式离子植入绝缘工艺 存储单元 掩模式只读存储器
年,卷(期) 2007,(4) 所属期刊栏目 电路设计
研究方向 页码范围 29-32
页数 4页 分类号 TN702
字数 2209字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1681-1070.2007.04.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱立群 2 3 1.0 1.0
2 牛征 2 36 2.0 2.0
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2017(1)
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研究主题发展历程
节点文献
平坦式离子植入绝缘工艺
存储单元
掩模式只读存储器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
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24
总被引数(次)
9543
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