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摘要:
无铅封装工艺是IC制造商为了顺应电子产品无铅化趋势而发展起来的,但存在晶须生成的潜在威胁.因此,锡须的抑制方法成为研究的关键.对电子集成电路封装行业中常见的9种抑制锡须的方法--避免局部镀纯锡,选择亚光或低应力镀锡,选择适宜的镀层厚度,选择适宜的阻挡层,纯锡镀层表面回流处理,退火处理,避免在纯锡镀层表面进行压负载操作,采用有机涂层或其它金属涂层,采用适宜的电镀添加剂等进行了总结,为IC业无铅电镀提供参考依据.
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文献信息
篇名 抑制锡须的方法
来源期刊 电镀与涂饰 学科 工学
关键词 IC 无铅封装 锡须 抑制方法
年,卷(期) 2007,(6) 所属期刊栏目 电子电镀
研究方向 页码范围 30-32
页数 3页 分类号 TQ153.13
字数 4067字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.06.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贺岩峰 长春工业大学化学工程学院 40 308 9.0 16.0
2 王先锋 长春工业大学化学工程学院 3 40 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
IC
无铅封装
锡须
抑制方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电镀与涂饰
半月刊
1004-227X
44-1237/TS
大16开
广州市科学城科研路6号
46-155
1982
chi
出版文献量(篇)
5196
总下载数(次)
23
总被引数(次)
23564
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