FeCl3-HCl体系紫铜化学抛光工艺的探讨

• 作者: 井涛 付莹莹 张忠诚 熊丽君
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 紫铜 化学抛光工艺 光亮剂 缓蚀剂 正交试验 FeCl3 AEO-9 BTA
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺开发
• 页码范围: 9-13
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.11|TG175.3
• 字数: 2703字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.03.003

摘要

研究了紫铜在FeCl3-HCl微酸性体系中化学抛光的工艺.介绍了该化学抛光工艺的流程及各前、后处理工序的配方.通过筛选实验,确定抛光液中光亮剂为脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-9),辅助光亮剂为乙醇,缓蚀剂为苯并三氮唑(BTA).采用正交试验,得到最佳化学抛光液配方为:每100 mL抛光液中含8 gFeCl3,8mL盐酸,0.1 mLAEO-9,0.2 gBTA,1.2mL乙醇.最佳抛光温度为30℃左右.根据正交试验结果,讨论了抛光液组成及温度对抛光效果的影响.各因素对抛光效果的影响作用由大到小依次为:抛光液温度＞FeCl3质量浓度＞AEO-9体积分数或BTA质量浓度＞乙醇体积分数＞盐酸体积分数.该工艺操作简单,抛光速度快,效果好,低污染,易于推广.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张忠诚	山东大学化学与化工学院	14	104	6.0	9.0
2	井涛	山东大学化学与化工学院	4	30	3.0	4.0
3	熊丽君	山东大学化学与化工学院	2	12	2.0	2.0
4	付莹莹	山东大学化学与化工学院	1	4	1.0	1.0