钽片的化学抛光

• 作者: 熊全明 袁宝明 郑欣
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 关键词: 化学抛光 表面粗糙度 纯钽板
• 年，卷（期）: 2000,（z1）
• 所属期刊栏目: 金属结构材料
• 页码范围: 112-115
• 页数: 4页
• 字数: 2159字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z1.026

摘要

研究了钽片化学抛光质量的影响因素,并给出了钽片溶解速度与化学抛光液中酸浓度的关系曲线.分析认为钽片产生自钝化必须满足:还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度.试验结果表明,抛光温度为40～45℃时,抛光钽片表面形成致密的钝化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽.