垂直腔面发射激光器中选择性氧化工艺稳定性研究

• 作者: 乔忠良 冯源 李海军 赵英杰 郝永芹 钟景昌 马建立
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 垂直腔面发射激光器 选择性氧化 氧化速率 环形分布孔结构
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 1055-1058
• 页数: 4页
• 分类号: TN248.4
• 字数: 2702字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.08.007

摘要

选择性氧化工艺已经成为制备高性能垂直腔面发射激光器(VCSEL)的关键技术,氧化后形成的氧化层提供了良好的电限制和折射率导引,但选择性氧化速率是呈线性规律还是抛物线规律仍存在很大的争议.在多种温度条件下,做了环形沟槽和环形分布孔的氧化实验,这是在垂直腔面发射激光器中采用的两种结构.实验结果表明,氧化窗口形状对氧化速率的影响也依赖温度条件,并对这种实验现象给出了定性解释.