多晶薄膜表面粗化与生长方式转变

• 作者: 徐可为 杨吉军
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶薄膜 表面粗化 温度 生长
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1110-1115
• 页数: 6页
• 分类号: TN3
• 字数: 4648字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.02.081

摘要

采用原子力显微镜研究了磁控溅射多晶薄膜表面粗化行为对归一化沉积温度Ts/Tm(Ts是沉积温度,Tm是材料熔点)的依赖性与薄膜生长方式转变行为.随着Ts/Tm增加,薄膜表面粗糙度增加,而表征粗糙度随时间演化特征的生长指数β历经了先减小再增加的过程.β对Ts/Tm的依赖关系反映了薄膜生长方式的转变行为,即薄膜生长依次由随机生长方式向表面扩散驱动生长方式与异常标度行为生长方式转变.在低于体扩散控制薄膜生长的温度时,晶界扩散机理导致多晶薄膜的表面粗化的异常标度行为.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	杨吉军	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	7	93	5.0	7.0