样品电流模式下外磁场引起的X射线吸收谱强度变化

• 作者: 徐彭寿 李红红 王劼 王锋 郭玉献 闫文盛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线磁性圆二色 样品电流 外磁场 全电子产额
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 561-568
• 页数: 8页
• 分类号: O4
• 字数: 6864字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.01.092

摘要

在用样品电流模式的测量过程中发现,磁场强度、磁场与样品表面的夹角以及光斑在样品表面的位置都会对吸收谱强度产生影响;在光斑、磁场和样品的不同几何配置下,测量并分析了表面均匀氧化的铝箔中氧的K边吸收谱,指出外磁场下吸收谱强度随各种条件变化的趋势,并对实验结果给出了合理解释;结果表明所用的模型分析与实验数据符合得很好;所得到的信息对于XMCD实验的设计安排、相应数据的分析以及物理信息的提取具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王劼	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	38	128	6.0	7.0
2	郭玉献	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	13	37	4.0	4.0
3	王锋	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	66	750	16.0	26.0
4	徐彭寿	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	70	488	10.0	19.0
5	李红红	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	10	33	4.0	4.0
6	闫文盛	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	17	35	3.0	5.0