TiAlN硬质薄膜/涂层材料的研究进展

• 作者: 吴中亮 康勃 林炜 王目孔 马瑞新
• 来源期刊: 硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN硬质薄膜 制备方法 性能 应用
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 186-191
• 页数: 6页
• 分类号: TG1
• 字数: 4991字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2008.03.012

摘要

概述了TiAlN硬质薄膜,涂层材料的基本性质、应用及制备技术的发展.介绍了国内外利用磁控溅射法(MS)、空心阴极离子镀(HCD)、多弧离子镀等镀膜工艺制备删硬质薄膜材料的最新研究进展.TiAlN薄膜应用于切削加工、航空、航天和模具中的优良性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王目孔	北京科技大学冶金与生态工程学院	6	88	2.0	6.0
2	马瑞新	北京科技大学冶金与生态工程学院	17	176	7.0	13.0
3	林炜	北京科技大学冶金与生态工程学院	5	115	4.0	5.0
4	吴中亮	北京科技大学冶金与生态工程学院	6	104	3.0	6.0
5	康勃	北京科技大学冶金与生态工程学院	6	104	3.0	6.0