高高宽比硬X射线聚焦波带片的制作

• 作者: 吴璇 朱效立 李亚文 牛洁斌 胡松 谢常青 陈军宁
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 菲涅尔波带片 硬X射线 X射线光刻 电子束直写 高高宽比
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 9-11
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2389字
• 语种: 中文

摘要

相对于软X射线显微成像,硬X射线显微成像对菲涅尔波带片的吸收体厚度提出了更高的要求.采用电子束光刻和X射线光刻复制的方法,在聚酰亚胺薄膜上成功制作了高高宽比的菲涅尔波带片.首先利用电子束光刻和微电镀技术制作了X射线光刻的掩模,然后利用X射线光刻和微电镀制作了高高宽比、线条侧壁陡直的菲涅尔波带片.复制后的波带片最外环宽度500 nm,直径1 mm,吸收体金厚度为3.6μm,高宽比达到7.2,可用于10 keV～25 keV的硬X射线成像.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	陈军宁	安徽大学电子科学与技术学院	160	1135	16.0	26.0