工作气氛对氮化硅薄膜结构的影响

• 作者: 周春兰 唐煜 张福俊 徐征 王文静 贾晓昀 赵谡玲
• 来源期刊: 太阳能学报
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控反应溅射 氮化硅薄膜 光学特性
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 理论与实践
• 页码范围: 1344-1347
• 页数: 4页
• 分类号: TK51
• 字数: 2289字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-0096.2008.11.006

摘要

以石英玻璃和抛光硅片做为衬底材料,采用射频磁控反应溅射法,通过改变Ar/N2流量比得到了一系列氮化硅薄膜.用分光光度计对薄膜的光学特性进行了表征;X射线光电子能谱(XPS)表明薄膜中出现了Si-N的键合结构;原子力显微镜(AFM)图显示了在抛光硅片上制备出的薄膜比较平整、致密.实验结果表明:纯N2条件下制备的薄膜比使用Ar和N2混合气体条件下制备的薄膜中的SiNx含量要低;在混合气体参与的条件下,随着氮气流量的增加,薄膜中出现了微孔,缺陷态增加,并对微孔的形成机制进行了解释.