单点光学终点检测系统的研究

• 作者: 周国安 柳滨 王学军 种宝春
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 离线终点检测 在线终点检测 光学干涉 反射率迹线
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 22-24,31
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1886字
• 语种: 中文

摘要

为了使CMP抛光精度更为精确,根据光学干涉原理设计了单点光学终点检测装置,给出了整套检测系统的简图和处理流程.在理想条件下,仿真单点光学检测的相干相位及反射率迹线,得出反射率迹线与抛光掉的透明层存在着函数关系,在实际条件核实了二者之间映射情况.采用九点测量后确认此函数条件下的单点光学终点检测具备高度的精确性,在此基础上推测了抛光头吸附晶圆以设定频率摆动情况下,光学传感器采集与处理数据的方法和过程.实际工艺操作证明,在综合运动条件下,其精度也达到要求.