改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 浸液式扫描曝光机 套刻和聚焦性能 缺陷改进 污染粒子控制
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: IC制造设备
• 页码范围: 13-19
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

论述了第五世代双扫描平台浸波式扫描曝光机的性能和进展.表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现.浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的.为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量.特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的.