离子注入与沉积TiN膜层中的残余应力

• 作者: JIANG Ye-hua LENG Chong-yan 刘洪喜 周荣 汤宝寅
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ＆D) 掠入射X射线衍射(GIAXRD) TiN薄膜 残余应力 GCr15钢
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 161-165
• 页数: 5页
• 分类号: TG172.44
• 字数: 3005字
• 语种: 中文

摘要

利用掠入射X射线衍射(GIAXRD)研究了GCr15轴承钢表面等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ＆D)氮化钛(TiN)薄膜后膜层表面的应力状态.用X射线衍射(XRD)分析了处理后膜层的化学组成.探讨了薄膜厚度和掠入射角对表面膜层中应力变化规律的影响.结果表明,表面膜层中主要存在TiN相,同时含有少量的TiO2和钛氮氧的化合物.不同工艺下,TiN/GCr15轴承钢试样表面膜层中存在的应力均为压应力;且应力值随着掠入射角度的增大而减小,随着薄膜厚度的增加而降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘洪喜	昆明理工大学机电工程学院材料成形与控制系	59	459	14.0	19.0
2	JIANG Ye-hua	昆明理工大学机电工程学院材料成形与控制系	1	2	1.0	1.0
3	周荣	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	12	81	5.0	8.0
4	LENG Chong-yan	昆明理工大学机电工程学院材料成形与控制系	1	2	1.0	1.0
5	汤宝寅	昆明理工大学机电工程学院材料成形与控制系	1	2	1.0	1.0