基于 DMD 的步进式无掩模数字曝光方法及装置

• 作者: 严伟 周绍林 唐小萍 杨勇 胡松 蒋文波 赵立新 陈旺富
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 数字微镜阵列 无掩模光刻 照明
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 14-19
• 页数: 6页
• 分类号: TN216
• 字数: 4666字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2008.10.003

摘要

随着器件特征尺寸的继续缩小,所需掩模的成本呈直线上升态势,为降低掩模成本,无掩模光刻技术成为人们研究的热点.介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法,并对用于实现该曝光方法装置的设计方案和具体实现进行了论述与分析.最后利用厚的光刻胶进行曝光工艺实验,实验结果表明,本装置可以实现亚微米级线条的刻蚀,较高的侧壁陡度,线条拼接结果良好,可以实现大面积数字式曝光.