离子注入碳对纯铁表面初始氧化行为的影响

• 作者: 刘柯钊 王茜 蒙大桥
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 化学
• 关键词: 表面吸附 氧化行为 离子注入 碳化物 纯铁 俄歇电子能谱 吸附过程 变化曲线
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 181-182
• 页数: 2页
• 分类号: O647.3

摘要

利用俄歇电子能谱（AES）研究高真空室中纯铁及多能量叠加离子注入碳纯铁样与氧气吸附及初始氧化过程。 纯铁以及注碳纯铁样品表面吸附及初始氧化行为研究发现，纯铁吸附过程氧元素的百分含量变化曲线呈缓慢上升趋势，注碳纯铁表面在本底真空下的吸附过程中氧元素的百分含量变化十分微弱，曲线的斜率基本趋近于零。与纯铁吸附过程相比较，注碳纯铁表面吸附氧的能力明显减弱，一种原因可能是由于注入的碳离子与基材生成了碳化物，碳化物的形成阻塞了氧的扩散通道；另一种原因可能是注入的碳离子占据将纯铁表面的吸附空位，