酞菁氧钛薄膜光学常数的测量研究

• 作者: 于书坤 何为 夏道成 李万程 杜国同 程传辉 高强
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 光学常数 椭偏光谱 酞菁氧钛 介电常数
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 1210-1213
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 3160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-0086.2008.09.018

摘要

使用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪,对在单晶硅片上真空蒸镀的酞菁氧钛(TiOPc)薄膜的光学性质进行了研究.在248～1650 nm(0.75～5 ev)的范围内分别使用柯西模型、逐点拟合模型、洛伦兹模型和高斯模型对测得的椭偏光谱进行拟合分析,获得了TiOPc薄膜的折射率、消光系数和复介电常数.通过比较,我们发现高斯模型拟合的均方差较小,拟合数据和测试数据重合度好,而且拟合得到的光学常数的图线光滑连续,因此认为高斯模型最适用于描述TiOPc薄膜的光学性质.由高斯模型拟合所得的消光系数推出了TiOPc薄膜的吸收谱,结果发现TiOPc薄膜存紫外可见近红外区有一系列的吸收峰,分析了其电子结构及吸收谱成因,并由吸收谱推算了其光学禁带宽度.