不同退火过程对紫外HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜性能的影响

• 作者: 易葵 范正修 袁景梅 贺洪波 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 光学薄膜 紫外 退火
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1200-1204
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3185字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20093605.1200

摘要

采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜进行了400℃的退火处理,发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190～300 nm范围内的峰值反射率均得到提高,说明此种后处理方法可能会改善膜层在紫外波段的光学性能.再对HfO2,Y2O3的单层膜进行相应的退火处理,发现退火后HfO2膜层的物理厚度减小从而发生监移现象;直升式退火使Y2O3膜层的折射率变小引起蓝移.阶梯式退火使得Y2O3膜层的物理厚度减小引起蓝移.对退火前后样品的微结构进行X射线衍射(XRD)法测量发现,退火可以使材料进行品化,并且采用直升式加热法后材料的结晶度更大,从而膜内散射变大,会引起膜层反射率的轻微降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	203	2312	23.0	32.0
4	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	48	491	16.0	19.0
5	袁景梅	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	7	129	6.0	7.0