碳化硅薄膜制备方法及光学性能的研究进展

• 作者: 张平 盖志刚 罗崇泰 陈焘
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳化硅薄膜 制备方法 化学气相沉积 磁控溅射 光学性能
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 193-198
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4496字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2009.04.002

摘要

碳化硅薄膜有密度小、热导率高、热膨胀系数低、硬度高等优异的性能.介绍了制备碳化硅薄膜的2种常用方法,即化学气相沉积和磁控溅射技术,比较了2种方法的各自优势.总结了碳化硅薄膜光学性能及短波发光特性的研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗崇泰	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	31	224	9.0	13.0
2	陈焘	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	23	216	8.0	14.0
3	盖志刚	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	4	19	2.0	4.0
4	张平	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	4	19	2.0	4.0