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摘要:
在Si、Ge红外窗口上利用离子辅助电子束蒸发技术和RF-PECVD技术制备了具有高透过率的AR/DLC保护薄膜,并与单层DLC保护薄膜的光学性能进行了对比.所制备的高透过率保护薄膜达到如下性能:在3~5μm波段,Si基底上一面镀高效红外增透膜一面镀AR/DLC增强型保护薄膜的平均透过率达到约96%,较之镀DLC膜平均透过率提高了约4%.在8~12 μm波段,Ge基底上一面镀高效红外增透膜一面镀AR/DLC增强型保护薄膜的平均透过率达到约95%,较之镀DIC膜平均透过率提高了约5%.有关薄膜样品都通过了相应的环境试验.
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文献信息
篇名 高透过率红外窗口保护薄膜的研制
来源期刊 光学与光电技术 学科 物理学
关键词 红外窗口 保护薄膜 光学透过率 环境适应性
年,卷(期) 2009,(6) 所属期刊栏目 材料与器件
研究方向 页码范围 45-47
页数 3页 分类号 O484
字数 1535字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-3392.2009.06.012
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研究主题发展历程
节点文献
红外窗口
保护薄膜
光学透过率
环境适应性
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
双月刊
1672-3392
42-1696/O3
大16开
武汉市阳光大道717号
38-335
2003
chi
出版文献量(篇)
2142
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3
总被引数(次)
9791
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