基底显微结构对薄膜生长影响的Monte Carlo模拟研究

• 作者: 吴炜 李春梅 谭天亚 郭永新
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Monte Carlo模拟 薄膜生长 基底显微结构 薄膜覆盖度 入射粒子沉积速率
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 原子分子物理交叉学科
• 页码范围: 903-908
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2009.05.024

摘要

利用Monte Carlo方法研究了基底显微结构对薄膜生长的影响.对不同显微结构基底上薄膜生长的初始阶段岛的形貌和尺寸与薄膜覆盖度和入射粒子沉积速率之间的关系进行了模拟和分析.模型中考虑了粒子沉积、吸附粒子扩散和蒸发等过程.结果表明,基底显微结构对薄膜生长具有明显影响.当沉积温度为300 K、沉积速率为0.005 ML/s(Monolayer/second,简称ML/s)、覆盖度为0.05 ML时,四方基底上薄膜生长呈现凝聚生长.随着覆盖度增加,岛的尺寸变大,岛的数目减少.而对于六方基底,当覆盖度从0.05 ML变化到0.25 ML时,薄膜生长经历了一个从分散生长过渡到分形生长的过程.无论是四方还是六方基底,随着沉积速率的增加,岛的形貌由少数聚集型岛核分布状态向众多各自独立的离散型岛核分布状态过渡.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴炜	辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室	20	67	5.0	7.0
2	谭天亚	辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室	11	38	4.0	5.0
3	郭永新	辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室	40	198	8.0	11.0
4	李春梅	辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室	6	18	3.0	3.0