射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类

• 作者: 亓永新 吕震 张益博 曹宁 李木森 王风 费振义 陈冲
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积 类金刚石薄膜 放电特性
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 7-12
• 页数: 6页
• 分类号: TQ164|TB43
• 字数: 3548字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2009.05.002

摘要

使用射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积技术(简称RFGDPECVD)在玻璃载玻片表面沉积类金刚石薄膜.用原子力显微镜(AFM)、摩擦试验仪、划痕试验机测定了其表面形貌、耐磨性及附着性.采用X射线光电子能谱(XPS)、分光光度计对两种气源(C4H10、C2H2)制备的DLC薄膜微观组成和透光率进行了检测和对比.结果表明:DLC薄膜的表面光滑、平整,表面粗糙度随沉积时间的增加单调递增;耐磨性及附着性优良;与C4H10相比使用C2H2作为碳源气体可以得到较高sp3含量和较低sp1含量的DLC膜;C2H2制备DLC薄膜的透光率低于C4H10;同一种碳源气体,反应流量比例越小,则DLC薄膜的透光性越好.