基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法

• 作者: 徐均琪 杨利红 石一磊 苏俊宏
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: 相位偏移干涉法 干涉图 薄膜 薄膜厚度测量
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 光学计量与测试
• 页码范围: 76-79,83
• 页数: 5页
• 分类号: TN247
• 字数: 2993字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2082.2009.01.018

摘要

为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试.结果表明:该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业大学光电工程学院	87	611	13.0	20.0
2	苏俊宏	西安工业大学光电工程学院	111	496	12.0	16.0
3	杨利红	西安工业大学光电工程学院	33	173	7.0	12.0
4	石一磊	西安工业大学光电工程学院	1	23	1.0	1.0