不同粒度的碳化硅磨料氧化性研究

• 作者: 刘新红 程宝珠 贾全利
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 粒度 碳化硅 氧化
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 78-81
• 页数: 4页
• 分类号: TG73
• 字数: 1857字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2009.05.017

摘要

本文用热重分析仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜(SEM)研究了两种不同粒度(0.28～104.71 μm,39.81～954.99 μm)的碳化硅粉体在20~1 400 ℃温度范围内非等温氧化的特性,结果表明:(1)粒度较小的1#试样的比表面积是2#试样的20多倍,1#试样氧化开始温度为560 ℃,而2#试样的氧化开始温度为870 ℃,1#试样在1 400 ℃的氧化增重率为2.36%,2#试样的增重率为1.14%.这表明在相同实验条件下,碳化硅粒度越小,活性越高,氧化程度越高.(2)粒度较小的碳化硅氧化产物为方石英.(3)SEM表明SiC表面生成SiO2保护膜可封闭部分气孔,阻止O2向内扩散,为保护性氧化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘新红	郑州大学材料科学与工程学院	58	210	8.0	11.0
2	贾全利	郑州大学材料科学与工程学院	46	226	8.0	13.0
3	程宝珠		9	34	4.0	5.0