SiC空间反射镜材料及其表面改性技术现状分析

• 作者: 王彤彤 王笑夷 申振峰 郑宣鸣 陈红 高劲松
• 来源期刊: 中国光学与应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: SiC SiC反射镜 表面改性
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 71-78
• 分类号: O484.4|TN307|TN304.24
• 字数: 5534字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1531.2009.02.001

摘要

SiC材料具有良好的物理特性和机械特性,是制备大口径空间反射镜的主要候选材料之一,而SiC反射镜的制名加工及其表面改性技术是推动高水平空间光学系统应用的重要条件.本文从实际工程应用的角度出发,分析了几种用SiC基底反射镜材料的特性,介绍了4种SiC的制备工艺.研究了目前国内外SiC基底反射镜的应用现状及其表面性情况,对改性层的性能指标、制备工艺和发展趋势进行了深入讨论.针对目前国内反射镜材料应用现状,认为加快性能SiC基底材料研发工作步伐,并找到一种利用现有大口径PVD设备低温制备优质SiC改性层的方法是今后工程用的发展方向.