空间RB-SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术

• 作者: 张学军 徐领娣 王加朋 范镝 郑立功
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 反应烧结碳化硅 表面改性 离子辅助沉积硅 表面反射率
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 2497-2502
• 页数: 6页
• 分类号: TH703|O484.1
• 字数: 3709字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.12.029

摘要

针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si\SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了表面离子辅助沉积(IAD)硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率.对厚度为10±0.5/μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示:IAD-Si膜层为非结晶结构,能够提供较好的抛光表面,在77～673 K的热冲击下膜层稳定性良好.以Si膜的抛光机理为依据,对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试,给出了关键的抛光工艺参数和实验结果.通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度RMS值优于1/20λ(λ=632.8 nm)且表面粗糙度RMS值<O.5 nm的超光滑表面;与改性前相比,反射镜改性层抛光表面在360～1 100 nm波段的反射率提高了4.5%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张学军	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	124	1634	25.0	33.0
2	郑立功	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	39	386	12.0	19.0
3	王加朋	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	3	39	3.0	3.0
7	范镝	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	16	148	6.0	12.0
8	徐领娣	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	3	48	3.0	3.0