RB-SiC表面改性Si涂层的制备与性能

• 作者: 刘红 方敬忠 苑永涛 邵传兵 陈益超
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: RB-SiC 射频磁控溅射 表面改性 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1281-1284
• 分类号: O484
• 字数: 2459字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112305.1281

摘要

为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径70 mm的RB-SiC基片上沉积了厚约100 μm的Si改性涂层,对改性层进行超光滑加工,并对改性层的表面形貌及性能进行了测试.ZYGO表面粗糙度仪测试结果表明,抛光后Si改性涂层表面粗糙度均方根值达到了0.496 nm;X射线衍射仪测试显示,制备Si改性涂层为多晶结构;使用拉力机做附着力测试,结果表明膜基附着力大于10.7 MPa.证明采用磁控溅射技术制备的Si改性涂层均匀、致密、附着力好,能够满足RB-SiC材料表面改性要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵传兵	中国科学院光电技术研究所	2	12	1.0	2.0
2	苑永涛	中国科学院光电技术研究所	6	19	2.0	4.0
3	方敬忠	中国科学院光电技术研究所	11	48	3.0	6.0
4	刘红	中国科学院光电技术研究所	54	511	12.0	21.0
5	陈益超	中国科学院光电技术研究所	3	17	3.0	3.0