2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性

• 作者: 刘海 刘震 王彤彤 王笑夷 高劲松
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学加工 磁控溅射 表面改性 RB-SiC 大口径
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1557-1563
• 页数: 7页
• 分类号: O484.1|TN307
• 字数: 1941字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20162407.1557

摘要

为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度,提高表面质量,针对大口径SiC的特性,选择Si作为改性材料,利用磁控溅射技术对2 m量级RB-SiC基底进行了表面改性.在自主研发的Φ3.2m的磁控溅射镀膜机上进行基底镀膜,利用计算机控制光学成型法对SiC基底进行了抛光改性.实验结果表明,改性层厚度达到15 μm;在直径2.04m范围内,膜层厚度均匀性优于±2.5％;表面粗糙度由直接抛光的5.64 nm(RMS)降低到0.78 nm.由此说明磁控溅射技术能够用于大口径RB-SiC基底的表面改性,并且改性后大口径RB-SiC的性能可以满足高质量光学系统的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高劲松	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室	63	701	16.0	23.0
2	王笑夷	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室	9	52	4.0	7.0
3	王彤彤	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室	13	51	4.0	6.0
4	刘震	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室	18	62	4.0	7.0
5	刘海	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室	11	110	5.0	10.0