CVD-SiC反射镜制备过程中热应力变形的研究

• 作者: 张剑寒 张宇民 陈道勇
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 航空航天
• 关键词: 碳化硅 反射镜 有限元 热应力 热变形
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: V2
• 字数: 1882字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2009.06.014

摘要

采用CVD工艺在反应烧结碳化硅(RB-SiC)反射镜坯体上沉积了一层致密的碳化硅薄膜作为反射镜镜面.CVD-SiC和RB-SiC热物理性能上的差异引起的热残余应力和热变形,在很大程度上影响反射镜的质量,本文采用有限单元法计算了沉积过程中反射镜的温度场、应力场和热变形,采用X射线衍射方法测试了薄膜表面的残余应力.分析结果表明,薄膜存在较大的残余应力,包括热应力和本征应力,两者量值相当,热变形很小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张宇民	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	60	685	14.0	24.0
2	张剑寒	清华大学机械工程系先进成形制造教育部重点实验室	9	44	4.0	6.0
3	陈道勇		9	72	4.0	8.0