CVD金刚石膜将成为金刚石材料未来发展的主流

• 作者: 王光祖 王芸
• 来源期刊: 磨料磨具通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石材料 CVD金刚石膜 CVD金刚石薄膜 合成金刚石 化学气相沉积 合成机制 静态法
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TQ127.1
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王光祖		187	553	12.0	21.0
2	王芸		4	0	0.0	0.0